无尘净化工程的前景如何？

  近年来，随着现代科技的发展和新一轮工业革命的深入，我国又开始实施再工业化战略，数字化、智能化技术在制造业生产方式、产业形态等方面发生了深刻的变化，同时伴随着新材料、新能源等技术的重大突破，这必然会带来新一轮科学技术和产业的变革。近年来，在高新技术产品的加工生产过程中，如何满足加工精密化、小型化、高纯度、高可靠性的要求，对洁净级生产环境的要求也越来越高。

 此外，随着现代生物医学的发展，对无尘室内细菌的数量、微生物污染的控制要求也越来越高，从而使医疗、生物、食品等行业免受微生物污染和感染。目前洁净技术已在各行各业中得到了广泛的应用，但其在防止微粒污染、微生物污染等方面还存在诸多问题，对无尘室标准环境的控制内容、指标还存在较大差距，对其提出了更高的要求。

无尘净化工程对半导体，芯片，集成电路的需求：

  我国强烈支持发展半导体工业，并将半导体材料的提纯作为发展半导体装置的重要基础。为了得到高纯度的硅材料，需要提高大批量、大批量集成电路工艺要求的原料及中间介质的高纯度、洁净度，这是影响产品质量的重要因素。

 自1950年代以来，芯片技术发展到今天，大致经历了三个发展阶段：美国发明起源于日本，韩国与中国台湾之间逐渐分化成熟；日本在PCDRAM市场上获得美国的认可；韩国成为PCDRAM新的主要生产国；中国台湾成为芯片代工、芯片封装领域的领头羊。

 因此，集成电路的高速经济发展，不仅要求控制空气中颗粒的大小，还要求在颗粒的数量上有更大的控制范围；同时，也要求化学污染控制能力在超大规模集成电路企业中得到相应的应用。

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